电解抛光是什么原理?

核心提示电解抛光是通过对电流密度,溶液粘度几温度的控制,使金属在电解液中选择性溶解(低凹处进入钝态而凸起部位活性溶解)结合溶液光亮剂和阳极极化作用,达到电化学整平抛光的目的。电解抛光过程简介1.首先采用机械抛光打磨设备及工件表面的氧化皮和各种表面缺

电解抛光是通过对电流密度,溶液粘度几温度的控制,使金属在电解液中选择性溶解(低凹处进入钝态而凸起部位活性溶解)结合溶液光亮剂和阳极极化作用,达到电化学整平抛光的目的。电解抛光过程简介1.首先采用机械抛光打磨设备及工件表面的氧化皮和各种表面缺陷,使被处理表面初步达到一定的粗糙度。2.再用电解的方式进一步提高被处理表面的光洁度。机械抛光是宏观消除表面的氧化皮及各种缺陷,而电解抛光是一个微观整平的过程,进一步提高表面的物化性能。电解抛光的优点1.由于电解抛光具有电化学整平及光亮作用,表面粗糙度值可达Ra0.05(▽12),反射率可达90%以上。因此,可以 防止设备表面挂料、粘壁等现象。2.电解抛光为阳极非均匀溶解过程,且在钝化区进行,因此金属表面可达到良好的钝化效果,且在表面形成均匀致密 的铬盐膜,大大提高了抗环境腐蚀性能。3.电解抛光消除了表面应力集中现象,同时消除了金属表面因研磨而行成的拜尔培层,提高了设备及工件表面的物化性能。电解抛光适用范围由于电解抛光成本高,技术含量高,操作难度大且不易形成自动化,故只用于一些对表面性能要求高的设备及工件(如:生化制药设备、化工聚合反应釜、航空配件、食品、化妆品设备等)。 补充: 电解抛光与化学抛光 电解抛光,是金属零件在特定条件下的阳极侵蚀。这一过程能改善金属表面的微观几何形状,降低金属表面的显微粗糙程度,从而达到使零件表面光亮的目的。电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工,某些工具的表面精加工,或用于制取高度反光的表面以及用来制造金相试片等。在不少场合下,电解抛光可以用来代替繁重的机械抛光,尤其是形状比较复杂,用机械方法难以加工的零件。但是,电解抛光不能去除或掩饰深划痕、深麻点等表面缺陷,也不能除去金属中的非金属夹杂物。多相合金中,当有一相不易阳极溶解时,将会影响电解抛光的质量。化学抛光,是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。在这一浸蚀过程中,金属表面被溶液浸蚀和整平,从而获得了比较光亮的表面。化学抛光可以用于仪器、铝质反光镜的表面精饰,以及其它零件或镀层的装饰性加工。同电解抛光比较,化学抛光的优点是:不需外加电源,可以处理形状更为复杂的零件,生产效率高等,但是化学抛光的表面质量,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光过程中会析出氧化氮等有害气体。在电解抛光过程中,阳极表面形成了具有高电阻率的稠性粘膜。这层粘膜在表面的微观凸出部分厚度较小,而在微观凹入处则厚度较大,因此,电流密度的微观分布也是不均匀的。微观凸出部分,电流密度较高,溶解较快,而微观凹入处,电流密度较低,溶解较慢,这样使微观凸出部分尺寸减小较快,微观凹入部分尺寸减小较慢,从而达到平整和光亮的目的。在化学抛光过程中,或由于金属微观表面形成了不均匀的钝化膜;或由于形成了类似电解抛光过程中所形成的稠性粘膜,从而使表面微观凸出部分的溶解速度显著地大于微观凹入部分,因此降低了零件的表面的显微粗糙程度,使零件表面比较光亮和平整。

1、按照冷却方式可分为水冷式高频电镀电源和风冷式高频电镀电源;

2、按照输出功率一般可分为常规高频电镀电源和大功率高频电镀电源或非标大功率电镀电源,前者是根据正常电镀生产所需要的电镀电源进行生产制作。而后者则是根据客户的实际需要进行定制生产,可根据生产线的长度,电渡槽的大小以及电镀种类和镀件大小来确定是否需要大功率;

3、按照电镀的内容可分为以下几种,高频仿金电镀电源(应用于各种仿金电镀工艺),电镀硬铬用高频电镀电源(高频开关电源),镀(镍、锌、稀土元素等)的高频电镀电源,以及用于其他功用的高频电镀电源(电解抛光,电镀氧化,电解氧化等);

4、除此之外,还分电镀实验用的高频电镀电源和正常生产用的高频电镀电源。

 
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